Authors
Komla Nomenyo, Stefan Mc Murtry, Christophe Couteau, Gilles Lerondel,
Title
Lithographie interferentielle pour la realisation de couches minces meso et nanostructurees : avantages et limites
In
12e journées de la Matière Condensée, Troyes, Août 2010
Pages
1
Year
2010
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Affiliations
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